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赤外線導入加熱装置 GVL298

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赤外線導入加熱装置 GVL298

赤外線導入加熱装置 GVL298 /株式会社 サーモ理工

既存真空チャンバーのICF70フランジに直接取付け可能。垂直、全方位取付け型もあり。
昇温脱離分析、薄膜結晶成長、真空中サンプルの清浄化など多数石英ロッド先端(Φ20mm)からのサンプルへの加熱のため、磁場中など狭い場所へ可能その際ノイズや電気誘導を発生しません 電源オフで急速降温。昇温温度は急速加熱用真空型(?1400℃)と超高真空型(?1600℃)

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