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原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL

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原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL

原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL /オックスフォード・インストゥルメンツ(株)

弊社のALD装置は独自開発のRemote Plasmaプロセスによる成膜が可能なことを特長としている。また一般的なThermalプロセスも同一のプロセスチャンバーにて成膜できる。Plasmaを使用することによりプリカーサの反応特性に優れる為
1) 幅広いプリカーサ及び膜種への対応が可能。
2) Thermalプロセスと比較してより低温で同等の膜質を得ることが可能となっている。
装置の種類としては
A) 研究用途向けオープンロード式ALD: OpAL
B) 研究?少量生産向けロードロック式ALD: FlexAL
の2タイプがある。

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