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TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』

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TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』

TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』 /サムコ(株)

『PD-270STL』は、液体ソースのTEOSを用いるSiO2膜形成用プラズマCVD装置です。独自のセルフバイアス法の採用により、高速かつ低ストレスの成膜が可能です。低温でステップカバレージと埋め込み効果に優れた高品質のSiO2膜を厚膜まで形成することが可能であり、Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御も可能です。
応用例としては、光導波路などの光学部品の製造や3次元LSIでの貫通ビア形成プロセスにおける側壁への絶縁膜形成、MEMSのマスク及び酸化膜犠牲層形成、プラスチック材料の保護膜形成などがあります。

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