コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置 ／㈲フリーダム
コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置はターゲット材A,B,Cを順次蒸着することにより1回のプロセスで混合比の異なる組成傾斜膜を基板上に成膜します。MEMSプロセスによりマトリックスの壁グリッドを設け、成膜後サンプルを分離することで1000個程の組成比の違う薄膜ライブラリが作成されます。この薄膜ライブラリを分析・評価することにより最適な物性を有する新材料を超効率に探索することができます。
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電動ＲＴポンプ ／(株)コガネイ
液晶パネルのスリット塗布にはコガネイのポンプが使われています。その技術を継承して新たに開発したポンプをご紹介します。 電動ＲＴポンプは液が流れるチューブを外側から媒体液でやさしく押して吐出します。でも応答性はプランジャポンプと同様です。半導体のレジストポンプとしても使用可能な清浄性を有していますので、大切な液を汚さずきれいなまま吐出します。ウエット薄膜形成や容器充填などに最適です。
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精密ディップコーティング装置 ／(株)あすみ技研
当社の精密ディップコーティング装置は、ドライプロセスと異なり高価な真空装置が不要な為、手軽に低コストで薄膜の作製が可能です。ＵＶ処理表面処理装置や熱処理装置など前後の工程も組み合わせたオーダーメード装置に対応も致します。
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シリコンラバーヒーター ／オーエムヒーター(株)
シリコンラバーヒーターは従来の金属ヒーターに代わる柔軟性のある薄型の面状発熱体で、薄型の為曲面や円筒に巻き付けも可能で熱応答性に優れています。専門メーカーとして、半導体設備用、航空機の補修用まで様々な用途向けを製造しており、独自の製法により1枚からの製造を安価・短納期で行っております。また、独自開発したマグネットタイプのやストレッチタイプのシリコンラバーヒーターで新たな用途への提案を行っています。
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ナノスピードディップコーター(型式:ND-0407-S4) ／(株)SDI
Z軸、X軸、θ軸の3軸を持つ全く新しい超低速ディップコーター。各軸の独立・複合動作や試料を斜めに浸漬させることも可能。ガラス、チューブ状等の物質に1ナノm/sec単位で速度設定が可能。ナノレベルの薄膜形成、粒子配列、オパール膜生成などに最適です。操作はタッチパネル方式を採用。試料の停止位置、停止時間、速度変更、繰返し動作等も簡単設定。京都大学平尾研究室のご指導により完成致しました。
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国際会議・分科会・研究会のシンポジウム運営サポート ／日刊工業広告社（日刊工業新聞社グループ）
日刊工業広告社（日刊工業新聞社グループ）では、分科会・研究会等のシンポジウム、国際会議等の運営業務をサポートいたします。展示会出展者の募集や、ポスターセッション、看板設営まで幅広く対応いたします。詳しくはお問い合わせください。
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高速Siディープエッチング装置『RIE-800iPB』 ／サムコ（株）
『RIE-800iPB』は、放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を採用した高速ボッシュプロセス専用のSiディープエッチング装置で、MEMSに求められるSiの高速かつ高異方性エッチングに対応した高性能な装置です。低スキャロップ加工やウエハー貫通エッチングも可能です。
応用例としては、加速度センサーやジャイロセンサー、アクチュエータなどの製作、インクジェットプリンターヘッドの加工、3次元LSIでのビアホール形成、μTASなどの医療機器の製作などがあります。
汎用研究試作用プラズマCVD装置『クラスターラボ』 ／サムコ（株）
『クラスターラボ』は、ロードロック室を中心に反応室を3室まで設置することが可能なモジュール方式の研究試作用プラズマCVD装置です。同一反応室で異種プロセスを連続して行う場合、相互汚染が生じやすく、作業効率の低下につながります。本装置では、複数のプラズマ反応室をそれぞれ独立したプラズマ処理専用の反応室として使用することが可能であり、ロードロック室を経て真空状態のまま試料を搬送し、異なる成膜プロセスを連続して行うことが可能です。
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