薄膜形成・加工装置

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フロントローディング式 真空プロセス高速加熱炉

フロントローディング式 真空プロセス高速加熱炉 /ユニテンプジャパン(株)

装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度1000℃を実現します。そのためSiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応します。

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ALD装置 サーマル原子層堆積装置

ALD装置 サーマル原子層堆積装置 /(株)テックサイエンス

低価格小型のサーマルALD原子層堆積装置で6インチ基板、8インチ基板、12インチ基板用があります。プリカーサは標準2系列で6系列まで追加することができます。

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国際会議・分科会・研究会のシンポジウム運営サポート

国際会議・分科会・研究会のシンポジウム運営サポート /日刊工業コミュニケーションズ(日刊工業新聞社グループ)

日刊工業コミュニケーションズ(日刊工業新聞社グループ)では、分科会・研究会等のシンポジウム、国際会議等の運営業務をサポートいたします。展示会出展者の募集や、ポスターセッション、看板設営まで幅広く対応いたします。詳しくはお問い合わせください。

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大型デュアルターゲットスパッターコーター「Q300TD」

大型デュアルターゲットスパッターコーター「Q300TD」 /(株)アド・サイエンス

Q300TDはコンパクトながら70L/sのターボ分子ポンプを搭載したデュアルターゲットスパッターコーターです。 ユーザーが設定した条件の保存、ログの自動記録が可能で膜圧計(FTM)も取付できます。 酸化しやすい金属Al, Cr等が高真空でスパッター可能。 大型φ300mm 高さ214mm のロングチャンバーのオプションもあり。

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レーザーアブレーションシステム

レーザーアブレーションシステム /(株)奈良機械製作所

固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調整することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。

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ガスクラスターイオンビーム

ガスクラスターイオンビーム /株式会社オーエスアイ・インダストリー

ガスクラスターイオンビーム(Gas Cluster Ion Beam)装置は数百?数千の原子集団からなるクラスターイオンを発生させます。クラスターイオンが対象物に衝突し、ラテラルスパッタ効果により被対象物表面を超平坦化加工、無損傷加工が可能です。通常のイオンビームでは得られない超低エネルギー照射効果(数eV/atom)とクラスターによる超高密度照射効果(表面改質、高品位薄膜形成)が可能。

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和文機関誌「応用物理」、最先端を特集します

和文機関誌「応用物理」、最先端を特集します /公益社団法人 応用物理学会

応用物理学会に所属する約23,000人の全会員に向けて毎月10日発行しています。広告募集中です!!

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Veeco社Piezoconガス濃度センサ/供給制御システム

Veeco社Piezoconガス濃度センサ/供給制御システム /横河フィールドエンジニアリングサービス(株)

Piezoconガス濃度センサ/供給制御システムは、CVDおよびMOCVD装置で使用される液体原料やドーパントガスの濃度を精密にモニタし、高い再現性で供給制御することにより、半導体製造装置の業界標準となっています。また,その強力な混合ガスのモニタ能力を利用して,半導体用途以外でのガス供給設備や燃料電池のガスモニタ等の幅広い分野に導入されています。

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ALD原子層堆積装置

ALD原子層堆積装置 /(株)テックサイエンス

低価格で堅牢なALD原子層堆積装置です。6インチ基板、8インチ基板、12インチ基板用があります。0.1nm?x10nmの原子層を均一に堆積します。

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コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置

コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置 /?フリーダム

コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置はターゲット材A,B,Cを順次蒸着することにより1回のプロセスで混合比の異なる組成傾斜膜を基板上に成膜します。MEMSプロセスによりマトリックスの壁グリッドを設け、成膜後サンプルを分離することで1000個程の組成比の違う薄膜ライブラリが作成されます。この薄膜ライブラリを分析・評価することにより最適な物性を有する新材料を超効率に探索することができます。

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