薄膜形成・加工装置

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電動RTポンプ

電動RTポンプ /(株)コガネイ

液晶パネルのスリット塗布にはコガネイのポンプが使われています。その技術を継承して新たに開発したポンプをご紹介します。 電動RTポンプは液が流れるチューブを外側から媒体液でやさしく押して吐出します。でも応答性はプランジャポンプと同様です。半導体のレジストポンプとしても使用可能な清浄性を有していますので、大切な液を汚さずきれいなまま吐出します。ウエット薄膜形成や容器充填などに最適です。

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精密ディップコーティング装置

精密ディップコーティング装置 /(株)あすみ技研

当社の精密ディップコーティング装置は、ドライプロセスと異なり高価な真空装置が不要な為、手軽に低コストで薄膜の作製が可能です。UV処理表面処理装置や熱処理装置など前後の工程も組み合わせたオーダーメード装置に対応も致します。

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シリコンラバーヒーター

シリコンラバーヒーター /オーエムヒーター(株)

シリコンラバーヒーターは従来の金属ヒーターに代わる柔軟性のある薄型の面状発熱体で、薄型の為曲面や円筒に巻き付けも可能で熱応答性に優れています。専門メーカーとして、半導体設備用、航空機の補修用まで様々な用途向けを製造しており、独自の製法により1枚からの製造を安価・短納期で行っております。また、独自開発したマグネットタイプのやストレッチタイプのシリコンラバーヒーターで新たな用途への提案を行っています。

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ナノスピードディップコーター(型式:ND-0407-S4)

ナノスピードディップコーター(型式:ND-0407-S4) /(株)SDI

Z軸、X軸、θ軸の3軸を持つ全く新しい超低速ディップコーター。各軸の独立・複合動作や試料を斜めに浸漬させることも可能。ガラス、チューブ状等の物質に1ナノm/sec単位で速度設定が可能。ナノレベルの薄膜形成、粒子配列、オパール膜生成などに最適です。操作はタッチパネル方式を採用。試料の停止位置、停止時間、速度変更、繰返し動作等も簡単設定。京都大学平尾研究室のご指導により完成致しました。

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高速Siディープエッチング装置『RIE-800iPB』

高速Siディープエッチング装置『RIE-800iPB』 /サムコ(株)

『RIE-800iPB』は、放電形式に誘導結合方式(Inductively Coupled Plasma)を採用した高速ボッシュプロセス専用のSiディープエッチング装置で、MEMSに求められるSiの高速かつ高異方性エッチングに対応した高性能な装置です。低スキャロップ加工やウエハー貫通エッチングも可能です。
応用例としては、加速度センサーやジャイロセンサー、アクチュエータなどの製作、インクジェットプリンターヘッドの加工、3次元LSIでのビアホール形成、μTASなどの医療機器の製作などがあります。

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汎用研究試作用プラズマCVD装置『クラスターラボ』

汎用研究試作用プラズマCVD装置『クラスターラボ』 /サムコ(株)

『クラスターラボ』は、ロードロック室を中心に反応室を3室まで設置することが可能なモジュール方式の研究試作用プラズマCVD装置です。同一反応室で異種プロセスを連続して行う場合、相互汚染が生じやすく、作業効率の低下につながります。本装置では、複数のプラズマ反応室をそれぞれ独立したプラズマ処理専用の反応室として使用することが可能であり、ロードロック室を経て真空状態のまま試料を搬送し、異なる成膜プロセスを連続して行うことが可能です。

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プラズマクリーナー PDC-32G

プラズマクリーナー PDC-32G /三洋貿易(株)科学機器事業部

小型・低コスト・業界最小サイズ 卓上型プラズマ処理装置
[米]Harrick Plasma社 PDC-32G / プラズマクリーナー
■□■特長■□■
■業界最小サイズ 「研究機関向けの超コンパクト設計」
■操作性 「可変RF出力搭載」どなたでも容易に操作可能
■幅広い用途 [光学材料/プラスチック/金属/セラミックス/PDMS]など、あらゆる試料の「表面洗浄・表面処理・表面改質」が可能

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VAPBOX搭載 MOCVD装置

VAPBOX搭載 MOCVD装置 /(株)ユニバーサルシステムズ

●HfO?,Ta?O?,Cu,TiN,Tan
●SrTiO?,BaTiO?,BST
●強誘電体
●酸化物超伝導
●ピエゾ効果材料
●巨大磁気抵抗材料
●バッファ層、光学材料など全般

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超高真空対応ニュートラルビーム銃

超高真空対応ニュートラルビーム銃 /?オメガトロン

高効率の低速イオン銃に独自のニュートラライザーを搭載し、非常に精密なエッチングを可能にしました。 金属は勿論、絶縁物においても良好な状態でエッチングすることが出来、表面吸着への応用にも使われます。

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SPD薄膜形成装置

SPD薄膜形成装置 /?SPD研究所

大気中で原料溶液を加熱した基板に向けて間欠的に噴霧し、均一な薄膜を形成する装置。溶液が原料なので薄膜の成分・組成の調整と微量物質の添加が可能。300mm角基板に対応する装置を開発済み。

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