薄膜形成・加工装置

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半導体レーザー製作用ICPエッチング装置『RIE-140iP』

半導体レーザー製作用ICPエッチング装置『RIE-140iP』 /サムコ(株)

『RIE-140iP』は、放電形式に誘導結合方式(Inductively Coupled Plasma)を採用した化合物半導体プロセス専用の枚葉式エッチング装置です。独自のトルネードICPを発展させた新型のICPプラズマ源を用い、低圧力領域で安定した高密度プラズマを効率よく発生させ、GaN、InGaAs系及び4元系化合物半導体などの高精度の異方性エッチングが可能です。オプションの干渉型エッチングモニターによる高精度なエッチング終点検出で、生産効率を高めることが可能です。
応用例としては、半導体レーザーの製作やフォトニック結晶の製作、量子ドットの製作などがあります。

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TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』

TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』 /サムコ(株)

『PD-270STL』は、液体ソースのTEOSを用いるSiO2膜形成用プラズマCVD装置です。独自のセルフバイアス法の採用により、高速かつ低ストレスの成膜が可能です。低温でステップカバレージと埋め込み効果に優れた高品質のSiO2膜を厚膜まで形成することが可能であり、Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御も可能です。
応用例としては、光導波路などの光学部品の製造や3次元LSIでの貫通ビア形成プロセスにおける側壁への絶縁膜形成、MEMSのマスク及び酸化膜犠牲層形成、プラスチック材料の保護膜形成などがあります。

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ウエッジワイヤーボンダー

ウエッジワイヤーボンダー /ハイソル?

操作性、汎用性に優れた、研究開発用マニュアルワイヤーボンダー(手動ワイヤーボンダー)です。超音波、熱、荷重を併用して18μmφ?50μmφまでの金線及びアルミ線を接合します。尚、ボンディング方式によりウエッジボンダー以外にボールボンダー、リボンボンダーのラインナップもございます。

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新型R&D用MBE装置GEN10

新型R&D用MBE装置GEN10 /日本ビーコ(株)

Veecoはこの度、新しいR&D用のMBE装置GEN10を発表いたしました。この装置は3インチまでの基板を取り扱うことができ、成長室には最大10本までの各種MBE用セルが取り付け可能です。また、搬送はクラスタータイプの自動搬送となっており、従来の小型R&D用装置とは一線を画しております。また装置は、最大で3成長室まで接続可能になっており、酸化物―窒化物の組み合わせた材料、デバイスの研究開発においても優れた拡張性、柔軟性を発揮いたします。

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マスクレス露光装置 DL-1000

マスクレス露光装置 DL-1000 /(株)ナノシステムソリューションズ

DL-1000は、研究開発の効率を飛躍的に向上させることのできるマスクが不要なコンパクトな露光装置です。
DMDに表示された露光パターンの縮小投影技術で最小画素1μmを実現。独自のオートフォーカス技術で基板の材質を問わず、厚膜レジストへの対応も可能です。
マスクアライナーの代替装置として、マスクアライナー用マスクの製造装置として、電子ビーム描画装置の補完装置としてなど、様々な形でご利用頂けます。 

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中古エリプソメ-ター、蛍光X線膜圧測定装置取扱い御座います。

中古エリプソメ-ター、蛍光X線膜圧測定装置取扱い御座います。 /(株)テイクオフ

中古機器導入でのコスト削減を!テイクオフは中古販売専門店です。中古理化学・分析機器多数ご用意しております。光学部品などのパーツ、ユニットまでリ・ユース!!HPでの在庫確認はもちろん、店舗で現物ご確認いただけます。他店にはパソコン・プリンタなどOA機器まで揃っているので、新規立上げにとても便利です!民間・法人・大学ともお取引実績多数!ご不要な機器の買取・撤去も承ります。まずは一度ご相談ください。

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原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL

原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL /オックスフォード・インストゥルメンツ(株)

弊社のALD装置は独自開発のRemote Plasmaプロセスによる成膜が可能なことを特長としている。また一般的なThermalプロセスも同一のプロセスチャンバーにて成膜できる。Plasmaを使用することによりプリカーサの反応特性に優れる為
1) 幅広いプリカーサ及び膜種への対応が可能。
2) Thermalプロセスと比較してより低温で同等の膜質を得ることが可能となっている。
装置の種類としては
A) 研究用途向けオープンロード式ALD: OpAL
B) 研究?少量生産向けロードロック式ALD: FlexAL
の2タイプがある。

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拡散炉 OMEGA Jr モデル272-2 M200 光洋リンドバーグ(株)

拡散炉 OMEGA Jr モデル272-2 M200 光洋リンドバーグ(株) /トキワ真空機材(株)

使用チューブ136mm MAX1100℃

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ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株)

ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株) /トキワ真空機材(株)

CF4、Ar,N2、O2及び不活性ガス

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アライナー MA-20 ミカサ(株)

アライナー MA-20 ミカサ(株) /トキワ真空機材(株)

4”仕様

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