薄膜形成・加工装置

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ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株)

ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株) /トキワ真空機材(株)

CF4、Ar,N2、O2及び不活性ガス

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アライナー MA-20 ミカサ(株)

アライナー MA-20 ミカサ(株) /トキワ真空機材(株)

4”仕様

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スパッタ装置 SPK-502 トッキ(株)

スパッタ装置 SPK-502 トッキ(株) /トキワ真空機材(株)

Φ6” マグネトロンカソード RF、DC、スパッタ

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膜厚測定用ドリラー

膜厚測定用ドリラー /株式会社 共和理研

スチールボールを研磨用治具に用い、スヘリカルドリル法に基づくSiのエピタクシャル層、又は拡散層の膜厚を高精度、且つ簡便に測定可能にした装置です。

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スクライバー

スクライバー /株式会社 共和理研

単軸手動式ダイヤモンドポイントスクライバーです。多彩な調整機構により微細加工のお手伝いをいたします。

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マスクアライナー

マスクアライナー /株式会社 共和理研

研究開発を目的としたネガマスク露光の際、サンプルとのアライメントを正確かつ容易に行え、超高圧水銀灯を用いた小型軽量な紫外線照射装置との組み合わせで効率よく露光することが可能なマニュアルUV露光装置です。

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スピンコーター

スピンコーター /株式会社 共和理研

シリコンウェハー及びガラス基盤上にフォトレジスト等の薬液を効率よく、且つ均一に回転塗布することを目的とした高性能小型フォトレジストスピンナーです。

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簡易型スピンコーターSC2005

簡易型スピンコーターSC2005 /株式会社アイデン

スピンコータは化合物の溶液から薄膜を生成するための装置です。真空蒸着装置では成分が分解してしまうため、薄膜を作ることが難しい化合物やポリマーなどの薄膜生成に適しています。

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レーザ微細加工装置

レーザ微細加工装置 /ネオアーク?

本装置は、国産・弊社製Nd:YVO4(1064nm)及びその高次高調波(532,355,266nm)光源を用いた直接微細加工装置です。従来の532nm,355nmに加えて、さらに深紫外の266nm,213nmを搭載することにより、セラミックス、金属、ガラス、樹脂等、殆どの物質への加工が可能となりました。

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レーザ直接描画装置

レーザ直接描画装置 /ネオアーク?

レーザ直接描画装置は、シリコン基板上に塗布されたレジスト材を、レーザ光線で直接描画する露光装置です。従来のマスクを使用する装置に比べ、マスクの作成が不要で、開発時間の短縮が可能です。高精度電動XYステージ、半導体レーザ(波長408nm)、オートフォーカス機能を堅牢な筺体に組み込んだ長寿命でコンパクトな描画装置です。

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