材料

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不揮発メモリー用PVD材料

不揮発メモリー用PVD材料 /株式会社 高純度化学研究所

当社では、豊富な材料開発技術をベースにFRAM,MRAM,RRAM,PRAM等不揮発メモリ材料であるPb(ZrTi)Ox,Co-Fe-B,(PrCa)MnOx,Ge-Te-Sb等を高純度金属及びその化合物を原料として、原料処理から各種焼成、各種溶解、加工、ボンディング工程を個々の材料に最もマッチした手法にて一貫生産しております。
また弊社では、ターゲット材料を開発する独自の体制を構築し先駆的な技術へ果敢に取り組んでいます。
その一例として、弊社独自の粉末冶金技術により、低酸素・高密度・高純度・高均一性を有したターゲットを提供しております。
さらに各種分析・解析部門を自社に保有し、お客様の高度な要求にも質の高い技術支援が可能です。

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磁気記録用PVD材料

磁気記録用PVD材料 /株式会社 高純度化学研究所

当社の磁気記録用スパッタリングターゲットは垂直磁気記録や磁気ヘッドの用途で、特性の制御においても、お客様より高い評価をいただいております。 高密度化、低パーティクル化、低酸素化、低透磁率化、微結晶化、などを目的としたSUL層(下地)・SEED層(中間)・MEDIA層(媒体)スパッタリングターゲットに挑戦しております。
たとえばCo多元系ターゲットは、ターゲットの材質とお客様の要求事項により真空ホットプレス・加圧焼成等各種焼結法、大気溶解・真空溶解・雰囲気溶解等溶解法にて最適の製造方法を選択いたします。

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インジウム ワイヤー

インジウム ワイヤー /テクノ・ケミックス有限会社

極低温シール用ワイヤーです。

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サファイア ウエハー

サファイア ウエハー /テクノ・ケミックス有限会社

各種サファイア ウエハー基板です。

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GaN hetero epitaxial wafer for LED

GaN hetero epitaxial wafer for LED /テクノ・ケミックス有限会社

GaN hetero epitaxial wafer on sapphire for LED

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超伝導薄膜基板

超伝導薄膜基板 /テクノ・ケミックス有限会社

MgO, SrTiO3, Sapphire, SrLaAlO4, LSAT等の基板です。

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酸化亜鉛単結晶

酸化亜鉛単結晶 /テクノ・ケミックス有限会社

各種ZnO単結晶基板です。

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各種半導体ウエハー

各種半導体ウエハー /テクノ・ケミックス有限会社

GaAs, GaP, Ge, GaSb, InAs, InSb, InP等の半導体ウエハーです。

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亜鉛化合物・カドミウム化合物単結晶

亜鉛化合物・カドミウム化合物単結晶 /テクノ・ケミックス有限会社

ZnS, ZnTe, ZnSe, CdS, CdTe, CdSe等の単結晶です。

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金属単結晶

金属単結晶 /テクノ・ケミックス有限会社

金、銀、白金、銅等の金属単結晶です。

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