その他

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ドライエアー発生装置 (RDAUシリーズ)

ドライエアー発生装置 (RDAUシリーズ) /ハイソル?

きれい:オイルフリーできれいな空気を供給します。
コンパクト:キャスターが付いて移動も簡単。
ドライ:露点温度?50℃可能!
その他:仕様につきましては直接弊社ホームページまでお問い合わせ下さい。

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新技術EM受託試験

新技術EM受託試験 /ハイソル?

これまではICチップをパッケージに実装し、そのパッケージをテストボード上のソケットに挿入して測定しておりましたが、ハイソルで開発した新技術EM試験ではパッケージもソケットも不要になりました。この為、大幅なパッケージ及び実装コストを削減できるだけでなく、ソケットの劣化による測定結果のバラツキもありません。

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EMS受託加工及びベンダーご紹介サービス

EMS受託加工及びベンダーご紹介サービス /ハイソル?

小ロットの試作加工品から大ロットの大量生産品まで、貴社の要求に最適なベンダーをご紹介致します。また、社内設備にて最短24時間以内の加工対応も可能ですので、様々なご要求内容に基いてフレキシブルにご提案致します。

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精密位置決めステージ

精密位置決めステージ /?サイエンスラボラトリーズ

サブミクロンの精度で位置決め可能なステップモーター精密位置決めデバイスです。
リニアアクチュエータ、リニアステージ、回転ステージ、チルトミラーマウント、チルトゴニオメータ、などなど斬新かつ最新技術を採用した製品が揃っています。ソフトウェアも充実しており、Labview、VB、Excel、C言語、Qbasicなど様々な言語に対応したソフトウェアを無料で提供しております。
RS232、USBで簡単にPC接続可能であり、複数台の連結動作も簡単操作で可能です。安価に精密・正確にサブミクロン位置決めができます。

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受託分析サービス

受託分析サービス /東芝ナノアナリシス(株)

半導体・フラットパネルディスプレイ分野で培った分析技術をご提供いたします。
・半導体製品、電子部品及びその品質信頼性評価用のユニット、素子の故障解析、構造解析、材料分析、インプロセスQC関連分析、プロセス評価、清浄化評価、化学分析及び評価
・金属、セラミックス、液晶、高分子材料、原子力材料の物理分析、化学分析及び評価
・水質・大気・土壌・産業廃棄物等を含む環境分析、作業環境測定、衛生検査及び評価

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ダイマティクス マテリアルプリンター DMP-2831

ダイマティクス マテリアルプリンター DMP-2831 /富士フイルム株式会社

FUJIFILM Dimatix社製マテリアルプリンターDMP?2831は、MEMS・ピエゾ方式のインクジェット技術を用いた実験用インクジェットプリンターです。プリンターには液の吐出状態と基材上の液滴状態を観察するカメラ2基、及びPC駆動制御のXYZステージが装備されており、ユーザーが開発した多様な液体の吐出状態確認やパターン印刷が可能です。カートリッジ型プリントヘッドの採用により、インクの無駄やプリントヘッドの洗浄作業が不要となり、少量の液材で効率よく研究ができます。

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卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ /アルバック理工株式会社

アルバック理工のMILA-5000は、赤外線ゴールドイメージ炉の急速加熱冷却性、温度の精密制御、クリーンな加熱、真空中をはじめ、自在な雰囲気選択など優れた特性をもつ、ランプアニール装置です。温度制御器とともにコンパクトに一体化し、低価格、小型、高性能をコンセプトとして誕生しました。
これまでの広範な分野はもとより、21世紀のメモリーと期待される強誘電体関係のRTP用研究開発機器としてもご利用下さい。

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大気圧用 赤外線導入加熱装置 GA298・GA198・GA154

大気圧用 赤外線導入加熱装置 GA298・GA198・GA154 /株式会社 サーモ理工

赤外線は導入ロッド内先端より加熱試料に照射昇温します。
回転・往復運動中や磁場中試料加熱最適。 最高到達温度 ?1500℃  加熱面積 ?約15Φ
1. 磁場中、狭い空間内の試料の加熱gできる。
2. 短時間に高温度到達
3. 非接触加熱なので運動中の消音可
4. 全方位加熱。

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大気圧用 赤外線放熱加熱器 IR298・IR198

大気圧用 赤外線放熱加熱器 IR298・IR198 /株式会社 サーモ理工

赤外線をゴールド回転楕円ミラーで集光し、加熱試料に照射・昇温 最高到達温度 ?1500℃
加熱面積 ?約15Φ
1. 小面積の加熱・昇温
2. 短時間に高温度到達
3. クリーン加熱

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赤外線真空炉 IVF298W

赤外線真空炉 IVF298W /株式会社 サーモ理工

真空チャンバーには6箇所の予備ポートがあり、拡張性の高い設計。
外部(大気圧側)より真空中チャンバー内サンプルに赤外線を集光照射・昇温します。
昇温は設定プログラムにより正確に温度制御が可能。
温度は1500℃ 加熱面積 ?Φ20mm 電源オフで急速降温。
大気圧、真空、不活性ガス雰囲気等様々なサンプル加熱の実験に使用可能。

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