応用物理一般

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光ヘテロダイン微小振動測定装置

光ヘテロダイン微小振動測定装置 /ネオアーク?

微小振動する微小試料の振動量をレーザを用いた「光ヘテロダイン法」によって計測する装置です。

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偏光光学、磁気光学測定装置 Kerr効果

偏光光学、磁気光学測定装置 Kerr効果 /ネオアーク?

光を検出手段に用いた、磁気光学効果による磁気特性評価装置です。

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He?Neレーザ

He?Neレーザ /ネオアーク?

可視光He?Neレーザ(632.8nm)

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半導体レーザ

半導体レーザ /ネオアーク?

各種半導体レーザ(375nm?1550nm)

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Nd:YAG/Nd:YVO4レーザ

Nd:YAG/Nd:YVO4レーザ /ネオアーク?

YAG/YVO4レーザは各種加工用にXeランプ励起、低繰り返しパルス発振レーザと、検査用、計測用、加工用として半導体励起、CW発振/高繰り返しパルス発振レーザの両方をご用意しております。

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安定化レーザ

安定化レーザ /ネオアーク?

可搬型よう素安定化レーザは、独立行政法人産業技術総合研究所様との技術提携のもとに開発され、国際度量衡委員会の勧告に準拠したもので、産業技術総合研究所において採用されている長さ特定標準器と同等の高精度を達成しています。アセチレン安定化半導体レーザ光源は「電気通信大学レーザー新世代研究センター」と「産業技術総合研究所 計測標準研究部門」とんl共同研究により開発された、アセチレン分子の飽和吸収線を基準とした「高精度光周波数標準レーザ」を基にして開発されたものです。

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レーザ微細加工装置

レーザ微細加工装置 /ネオアーク?

本装置は、国産・弊社製Nd:YVO4(1064nm)及びその高次高調波(532,355,266nm)光源を用いた直接微細加工装置です。従来の532nm,355nmに加えて、さらに深紫外の266nm,213nmを搭載することにより、セラミックス、金属、ガラス、樹脂等、殆どの物質への加工が可能となりました。

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レーザ直接描画装置

レーザ直接描画装置 /ネオアーク?

レーザ直接描画装置は、シリコン基板上に塗布されたレジスト材を、レーザ光線で直接描画する露光装置です。従来のマスクを使用する装置に比べ、マスクの作成が不要で、開発時間の短縮が可能です。高精度電動XYステージ、半導体レーザ(波長408nm)、オートフォーカス機能を堅牢な筺体に組み込んだ長寿命でコンパクトな描画装置です。

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インジウム ワイヤー

インジウム ワイヤー /テクノ・ケミックス有限会社

極低温シール用ワイヤーです。

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小型真空部品

小型真空部品 /?サイエンスラボラトリーズ

Kimball社製 球形真空チャンバー、フランジ等、各種超高真空対応製品を取り扱っております。

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