電子線描画装置 ／(株)エリオニクス
世界初、超高加速125kVでの電子ビームリソグラフィー!広領域、低歪の描画フィールドにより、均一かつ高精度な描画を実現しました。最小径φ1.7nmのビームが長時間安定して得られます。これにより市販レジストでも4nmの超微細パターンが描画可能です。
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無冷媒希釈冷凍機 ／(株)冷温技術研究所
液体ヘリウムがないところでも、約24時間で絶対温度20mKに到達し、超低温実験が可能です。ランニングコストが大幅に軽減されます。低温シールが不要ですので、低温実験に慣れていない方でも手軽に使うことができます。 仕様 最低温度：20mK（参考値9mK） 冷却能力：100μW @100mK
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顕微フォトルミネッセンスマッピングシステム PLMicro ／ナノメトリクス・ジャパン株式会社
Waterloo社で生まれたこの技術は、PHILIPS，ACCENT，NANOMETRICSと受け継がれ、多くのユーザーにご愛好いただいております。ＲＰＭ２０００やＶｅｒｔｅＸとは異なり、極微小領域のマッピング測定を得意としている装置です。研究からプロダクション、幅広くご使用いただける装置です。
高精度X線回折マッピングシステム Vektor ／ナノメトリクス・ジャパン㈱
本装置は高分解能・高速Ｘ線回折マッピングシステムで、PHILIPS社から受け継いだ技術を、ACCENT社で再開発・最適化され，NANOMETRICSへと受け継がれました。Ｓi,Ⅲ－ⅤやＳｉＧｅなどの半導体プロセスの多くの要求に対応できるようにデザインされているシステムです。
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高速フォトルミネッセンスマッピングシステムVerteX ／ナノメトリクス・ジャパン㈱
この装置は、フォトルミネッセンスを超高速でマッピングする事ができる唯一のシステムです。
ＲＰＭ２０００タイプとは異なり、ロボットハンドリングオプションを選択することが出来るので、完全自動化に対応できるモデルです。また、自動化の他に次の特徴も兼ね備えておりますので、Ｒ＆Ｄからプロダクションまでご使用いただける装置です。
高速フォトルミネッセンスマッピングシステムRPM2000 ／ナノメトリクス・ジャパン㈱
この装置は、フォトルミネッセンスを超高速でマッピングする事ができる唯一のシステムです。従来の装置では成し得なかった、高密度マッピングをハイスル－プットで行えるシステムです。基板受け入れ、epi成長後の検査および評価または、Ｒ＆Ｄのツールとして数多く採用されており、事実上業界スタンダードの地位を確立したと言っても過言ではありません。
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ホール効果測定システム HL5500PC ／ナノメトリクス・ジャパン㈱
バイオラッド，アクセント，ナノメトリクスと受け継がれ、既に多くのユーザーにご愛好いただいておりますこのHL5500PCシリーズは、今日も新しいアプリケーションに採用されて続けております。初期に開発された技術は、常に安定した測定を提供し、さまざまな特徴は年代ごとの要求に対応することができます。また、特殊なご要求に対しても、その都度承っておりますので、お気軽にご相談ください。
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自動キャリア濃度測定システム ECVpro ／ナノメトリクス・ジャパン㈱
本装置は、電解液を用いたエレクトロケミカルＣＶ測定システムです。（水銀は使われておりません）
British Telecom で開発された技術は、POLARONで製品化され，BIO-RAD，ACCENT，NANOMETRICSと受け継がれて来ました。ECVprｏは、多くのユーザーにご愛好いただいておりますＰＮシリーズ キャリア濃度測装置(別名：ECVプロファイラー，SPPプロファイラー，ポラロン等と略称されている）を完全自動化したシステムです
MicroTec(マイクロテック） Ver4.0 ／(株)インターソフト
Windows上で動作する様々なシリコンデバイス（LDD MOSFET、DMOS、JFET、BJT、IGBT、ショットキーデバイス、PINダイオード等）のプロセスとデバイスのシミュレーターです。イオンインプラテーションや拡散の状態、Ｉ／Ｖ特性、リーク電流、ポテンシャル、正孔、電子分布、電界分布、空乏層分布、電流密度等がシミュレーションできます。
"Semiconductor Devices Explained" （John Wiley & Sons社）の補助教材として使用され、UC Berkeley, 島根大学, 理科大学を始め28カ国100以上の大学で使われております。また、実用版も日立, NTT, GE, Cree Research, Rockwell Semiconductorsなど世界17社以上で採用頂いております。
EM-Suite（イーエム・スイート） ／(株)インターソフト
EM-Suiteは、Windows/Linux上で、露光転写工程における先進半導体リソグラフィシミュレーション（液浸、Alternating Phase-Shifting Mask、Attenuated Phase-Shifting Mask等）を実現するソフトウェアです。マウスの使える3D設計画面により直感的な製図が可能。さらに光の波長、強度、材質設定等の詳細パラメータ設定、独自のシミュレーション環境構築が可能です。
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