薄膜・表面

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Veeco社Piezoconガス濃度センサ/供給制御システム

Veeco社Piezoconガス濃度センサ/供給制御システム /横河フィールドエンジニアリングサービス(株)

Piezoconガス濃度センサ/供給制御システムは、CVDおよびMOCVD装置で使用される液体原料やドーパントガスの濃度を精密にモニタし、高い再現性で供給制御することにより、半導体製造装置の業界標準となっています。また,その強力な混合ガスのモニタ能力を利用して,半導体用途以外でのガス供給設備や燃料電池のガスモニタ等の幅広い分野に導入されています。

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ALD原子層堆積装置

ALD原子層堆積装置 /(株)テックサイエンス

低価格で堅牢なALD原子層堆積装置です。6インチ基板、8インチ基板、12インチ基板用があります。0.1nm?x10nmの原子層を均一に堆積します。

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イオン化ポテンシャル測定装置PYS

イオン化ポテンシャル測定装置PYS /(株)テックサイエンス

イオン化ポテンシャルと仕事関数を測定できるPYS光電子収量分光装置です。真空と大気中でイオン化ポテンシャルと仕事関数を測定できる小型PYS装置です。有機EL素子の研究分野においてイオン化ポテンシャルエネルギーを測定できる装置は光電子収量分光のPYSとなります。

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多機能AFM

多機能AFM /(株)テックサイエンス

カチレバーを交換するだけで大気中AFM, 液中AFM,走査型熱顕微鏡測定ができます。カチレバーは平行性、直線性にすぐれ高精度に走査ができます。生化学分野の細胞・DNAやナノレベル製品の品質管理に採用されています。調整不要の簡単な操作と多用途の経済性が評価されます。

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コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置

コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置 /?フリーダム

コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置はターゲット材A,B,Cを順次蒸着することにより1回のプロセスで混合比の異なる組成傾斜膜を基板上に成膜します。MEMSプロセスによりマトリックスの壁グリッドを設け、成膜後サンプルを分離することで1000個程の組成比の違う薄膜ライブラリが作成されます。この薄膜ライブラリを分析・評価することにより最適な物性を有する新材料を超効率に探索することができます。

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電動RTポンプ

電動RTポンプ /(株)コガネイ

液晶パネルのスリット塗布にはコガネイのポンプが使われています。その技術を継承して新たに開発したポンプをご紹介します。 電動RTポンプは液が流れるチューブを外側から媒体液でやさしく押して吐出します。でも応答性はプランジャポンプと同様です。半導体のレジストポンプとしても使用可能な清浄性を有していますので、大切な液を汚さずきれいなまま吐出します。ウエット薄膜形成や容器充填などに最適です。

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精密ディップコーティング装置

精密ディップコーティング装置 /(株)あすみ技研

当社の精密ディップコーティング装置は、ドライプロセスと異なり高価な真空装置が不要な為、手軽に低コストで薄膜の作製が可能です。UV処理表面処理装置や熱処理装置など前後の工程も組み合わせたオーダーメード装置に対応も致します。

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シリコンラバーヒーター

シリコンラバーヒーター /オーエムヒーター(株)

シリコンラバーヒーターは従来の金属ヒーターに代わる柔軟性のある薄型の面状発熱体で、薄型の為曲面や円筒に巻き付けも可能で熱応答性に優れています。専門メーカーとして、半導体設備用、航空機の補修用まで様々な用途向けを製造しており、独自の製法により1枚からの製造を安価・短納期で行っております。また、独自開発したマグネットタイプのやストレッチタイプのシリコンラバーヒーターで新たな用途への提案を行っています。

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ナノスピードディップコーター(型式:ND-0407-S4)

ナノスピードディップコーター(型式:ND-0407-S4) /(株)SDI

Z軸、X軸、θ軸の3軸を持つ全く新しい超低速ディップコーター。各軸の独立・複合動作や試料を斜めに浸漬させることも可能。ガラス、チューブ状等の物質に1ナノm/sec単位で速度設定が可能。ナノレベルの薄膜形成、粒子配列、オパール膜生成などに最適です。操作はタッチパネル方式を採用。試料の停止位置、停止時間、速度変更、繰返し動作等も簡単設定。京都大学平尾研究室のご指導により完成致しました。

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高輝度電子銃

高輝度電子銃 /(株)オメガトロン

新開発の電子銃は高輝度なビームを発生する事が出来、グラファイトの表面でさえも良好なRHEEDパターンを得る事ができます。

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