半導体A(シリコン)

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TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』

TEOS-SiO2膜形成用高速プラズマCVD装置『PD-270STL』 /サムコ(株)

『PD-270STL』は、液体ソースのTEOSを用いるSiO2膜形成用プラズマCVD装置です。独自のセルフバイアス法の採用により、高速かつ低ストレスの成膜が可能です。低温でステップカバレージと埋め込み効果に優れた高品質のSiO2膜を厚膜まで形成することが可能であり、Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御も可能です。
応用例としては、光導波路などの光学部品の製造や3次元LSIでの貫通ビア形成プロセスにおける側壁への絶縁膜形成、MEMSのマスク及び酸化膜犠牲層形成、プラスチック材料の保護膜形成などがあります。

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高周波電源

高周波電源 /アステック(株)

本機はリニアアンプ方式を採用していますので低出力から最大出力まで安定した出力制御を行うことが出来ます、またスイッチング電源を採用していますので小型・軽量なプラズマ用高周波電源です。
ご利用可能な周波数は100- 460Khz、1.7- 2.1Mhz、13.56Mhz、27.12Mhz、40.68Mhzです。出力電力は300W- 15KWまで各機種取りそろえています。

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各種ウェハーサービス

各種ウェハーサービス /ミワオプト(株)

各種サイズのSiウェハーの提供。膜厚加工サービス。

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ストークス型オートステージエリプソメータ LMSE?WS?TF

ストークス型オートステージエリプソメータ LMSE?WS?TF /ミワオプト(株)

研究室から生産ラインまで幅広く対応。ストークス法を採用して高速、高精度及び高再現性を実現。全世界で2500台以上の納入実績が有ります。レーザを使用した多波長タイプにも対応。UVからIRまで幅広く対応。300mmより大口径にも対応。更に大口径も対応が可能。

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薄膜計測システム MTFW-50

薄膜計測システム MTFW-50 /ミワオプト(株)

干渉膜厚計でエリプソメータのオプションで装着が可能。単体としても各種カスタマイズが出来ます。

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エポキシダイボンダー

エポキシダイボンダー /ハイソル?

操作性、汎用性に優れた、研究開発用マニュアルダイボンダー(手動ダイボンダー)です。接着剤のディスペンス及びチップのピックアップが1ヘッドに組み込まれており、0.3mm角のチップも容易にハンドリング可能です。 尚、ダイボンディング後に使用するワイヤーボンダーも各種取り揃えております。

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中古イオンスパッタ装置から大型真空装置まで取扱い御座います。

中古イオンスパッタ装置から大型真空装置まで取扱い御座います。 /(株)テイクオフ

中古機器導入でのコスト削減を!テイクオフは中古販売専門店です。中古理化学・分析機器多数ご用意しております。光学部品などのパーツ、ユニットまでリ・ユース!!HPでの在庫確認はもちろん、店舗で現物ご確認いただけます。他店にはパソコン・プリンタなどOA機器まで揃っているので、新規立上げにとても便利です!民間・法人・大学ともお取引実績多数!ご不要な機器の買取・撤去も承ります。まずは一度ご相談ください。

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原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL

原子層堆積装置(ALD) 型式: FlexAL, OpAL /オックスフォード・インストゥルメンツ(株)

弊社のALD装置は独自開発のRemote Plasmaプロセスによる成膜が可能なことを特長としている。また一般的なThermalプロセスも同一のプロセスチャンバーにて成膜できる。Plasmaを使用することによりプリカーサの反応特性に優れる為
1) 幅広いプリカーサ及び膜種への対応が可能。
2) Thermalプロセスと比較してより低温で同等の膜質を得ることが可能となっている。
装置の種類としては
A) 研究用途向けオープンロード式ALD: OpAL
B) 研究?少量生産向けロードロック式ALD: FlexAL
の2タイプがある。

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不揮発メモリー用PVD材料

不揮発メモリー用PVD材料 /株式会社 高純度化学研究所

当社では、豊富な材料開発技術をベースにFRAM,MRAM,RRAM,PRAM等不揮発メモリ材料であるPb(ZrTi)Ox,Co-Fe-B,(PrCa)MnOx,Ge-Te-Sb等を高純度金属及びその化合物を原料として、原料処理から各種焼成、各種溶解、加工、ボンディング工程を個々の材料に最もマッチした手法にて一貫生産しております。
また弊社では、ターゲット材料を開発する独自の体制を構築し先駆的な技術へ果敢に取り組んでいます。
その一例として、弊社独自の粉末冶金技術により、低酸素・高密度・高純度・高均一性を有したターゲットを提供しております。
さらに各種分析・解析部門を自社に保有し、お客様の高度な要求にも質の高い技術支援が可能です。

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ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株)

ドライエッチャー DEA-506T キャノンアネルバエンジニアリング(株) /トキワ真空機材(株)

CF4、Ar,N2、O2及び不活性ガス

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