原子層堆積装置（ＡＬＤ） 型式： FlexAL, OpAL ／オックスフォード・インストゥルメンツ（株）
弊社のALD装置は独自開発のRemote Plasmaプロセスによる成膜が可能なことを特長としている。また一般的なThermalプロセスも同一のプロセスチャンバーにて成膜できる。Plasmaを使用することによりプリカーサの反応特性に優れる為
1) 幅広いプリカーサ及び膜種への対応が可能。
2) Thermalプロセスと比較してより低温で同等の膜質を得ることが可能となっている。
装置の種類としては
A) 研究用途向けオープンロード式ALD: OpAL
B) 研究～少量生産向けロードロック式ALD: FlexAL
の2タイプがある。
不揮発メモリー用PVD材料 ／株式会社 高純度化学研究所
当社では、豊富な材料開発技術をベースにFRAM,MRAM,RRAM,PRAM等不揮発メモリ材料であるPb(ZrTi)Ox,Co-Fe-B,(PrCa)MnOx,Ge-Te-Sb等を高純度金属及びその化合物を原料として、原料処理から各種焼成、各種溶解、加工、ボンディング工程を個々の材料に最もマッチした手法にて一貫生産しております。
また弊社では、ターゲット材料を開発する独自の体制を構築し先駆的な技術へ果敢に取り組んでいます。
その一例として、弊社独自の粉末冶金技術により、低酸素・高密度・高純度・高均一性を有したターゲットを提供しております。
さらに各種分析・解析部門を自社に保有し、お客様の高度な要求にも質の高い技術支援が可能です。
ウェハーライフタイム測定装置 ／株式会社 共和理研
共振回路を用いた新しいタイプのライフタイム測定器です。シリコンウェハーのライフタイム測定を非接触で容易に行うことが可能です。ご使用目的に応じたオシロスコープを選定することにより有効にその実力を発揮します。
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膜厚測定用ドリラー ／株式会社 共和理研
スチールボールを研磨用治具に用い、スヘリカルドリル法に基づくSiのエピタクシャル層、又は拡散層の膜厚を高精度、且つ簡便に測定可能にした装置です。
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マイクロプローバー ／株式会社 共和理研
微細な半導体ウェハー・プリント基盤や各種材料の電気的特性を測定するためのプロービングを目的とする装置です。精細域へのアプローチに優れ、各種ポジショニング用マニピュレーター・プローブ・顕微鏡・シールドケース等の組み合わせによりお客様のニーズにお応え致します。
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マスクアライナー ／株式会社 共和理研
研究開発を目的としたネガマスク露光の際、サンプルとのアライメントを正確かつ容易に行え、超高圧水銀灯を用いた小型軽量な紫外線照射装置との組み合わせで効率よく露光することが可能なマニュアルUV露光装置です。
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